SKN-GP500射频磁控:
射频磁控溅射系统利用电离的Ar+ 离子,在磁场 作用下轰击靶材,带电纳米离子在磁场作用下偏转,中性粒子在衬底上成膜。
磁控溅射有两种模式,直流模式溅射金属材料,射频模式溅射氧化物材料。薄 膜生长速率快、可靠性好、厚度可原位检测。